O SU9000 é o MEV premium da HITACHI. Possui óptica eletrônica exclusiva, com a amostra posicionada dentro de uma lacuna entre as partes superior e inferior da peça polar da lente objetiva. Este conceito chamado true in-lens – combinado com a próxima geração da tecnologia de emissão de campo a frio da HITACHI – garante a mais alta resolução possível do sistema (resolução SE 0,4 nm @ 30 kV; 1,2 nm @ 1 kV sem exigir tecnologia de desaceleração do feixe [0,8 nm com desaceleração do feixe]) e estabilidade.

Para tornar esse poder de resolução utilizável em aplicações práticas em seu laboratório, o SU9000 utiliza um estágio de amostra de entrada lateral ultraestável semelhante aos sistemas MET de ponta e incorpora amortecimento de vibração otimizado e um gabinete fechado para proteger a óptica eletrônica do ruído ambiental. Além disso, o conceito de vácuo limpo do SU9000 oferece um nível de vácuo no canhão e na câmara de amostra que é uma ordem de magnitude melhor do que a geração anterior, minimizando assim os artefatos de contaminação da amostra (a limpeza efetiva das amostras pré-observação pode ser alcançada usando limpador de amostra ZONESEM da Hitachi).

Além da resolução pura e insuperável, o SU9000 também é equipado com um notável sistema de detecção 2+2 para observações de superfície, composição e transmissão da amostra.

O uso combinado do filtro Super ExB patenteado com o primeiro detector superior permite aos usuários filtrar e coletar energias de sinal SE e LA-BSE de interesse, suprimindo assim artefatos de carga e mostrando detalhes topográficos, e o detector superior recebe seletivamente sinais HA-BSE, fornecendo informações sem topografia de diferenças de orientação material e cristalográfica. Essa tecnologia de seleção de sinal torna o SU9000 um sistema preferido para catalisadores e outras áreas de pesquisa, bem como para aplicações de imunomarcação biológica e farmacêutica quando usado em combinação com um suporte de amostra criogênica.

O SU9000 também é um STEM de baixo kV incrivelmente poderoso, geralmente exibindo maior contraste em recursos de amostra críticos do que os sistemas S-TEM de alta energia. Além disso, imagens simultâneas de campo claro e campo escuro anular são possíveis com o detector de campo escuro configurável em 56 posições diferentes para uma seleção otimizada de contraste Z do padrão de interesse.

A impressionante estabilidade do SU9000 permite uma especificação de resolução STEM garantida de 0,34 nm, permitindo a observação de franjas de treliça de grafite, por exemplo, em um nanotubo de carbono.