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MC1000 Ion Sputter Coater

O MC1000 Ion Sputter Coater é um equipamento  de preparação de amostras para  de microscopia eletrônica de varredura (MEV). Foi projetado para depositar um revestimento de metal fino, como platina (Pt), ouro (Au), liga de platina-paládio (Pt-Pd) ou liga de ouro-paládio (Au-Pd), a fim de deixar a superfície da amostra eletricamente condutora e evitar o acúmulo de carga durante a observação em MEV. Pode ser também configurado com um módulo de evaporação de Carbono. A espessura da deposição de metal é variável de alguns nanômetros até dezenas de nanômetros, usando os controles no equipamento e a tela LCD. Até 5 condições de processamento podem ser armazenadas.

Opera por meio de um eletrodo magnetron, o que significa que um ímã é incorporado no alvo (eletrodo negativo) para gerar um campo magnético perpendicular ao campo elétrico na superfície do alvo. Isso minimiza os danos ao espécime devido à irradiação com partículas em movimento rápido (incluindo íons refletidos) e permite o revestimento com alta granularidade (partículas de diâmetro menor).

Características

  • Operação de um toque no painel LCD
  • Salva e recupera até 5 receitas
  • Eletrodo do tipo magnetron diminui o dano ao espécime e reduz o tamanho médio de partícula
  • Câmara opcional para amostras de até 6 pol. (150 mm) de diâmetro
  • Espaçador opcional para amostras de até 1,75 pol (45 mm) de altura
  • Válvula principal para manter a câmara sob vácuo quando não estiver em uso

 

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Hitachi MC1000 Ion Sputter Coater

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